Fotolithographische Filter kommen bei Anwendungen in LSI und LCD Steppern zum Einsatz,
bei denen Hochleistungs-Quecksilberdampflampen für die Belichtung eingesetzt werden.
Die sehr schmalbandigen Bandpassfilter erzeugen eine quasi-monochromatische
Strahlung. Hierdurch wird auf dem Target die bestmögliche Auflösung erreicht.

LASER COMPONENTS bietet neue i-line Bandpassfilter mit Filterdesigns auf Basis der Dual
Magnetron Reactive Sputtering Beschichtungen an. Die i-line Intensität ist dadurch deutlich
verbessert, ebenso wie die Homogenität im fotolithographischen Prozess.

Vom Hersteller dieser Filter, Omega Optical, kommt ein weiteres Produkt, welches besonders
interessant für die MEMS-Herstellung ist. MicroChem, der Hersteller des Fotolacks
SU-8, empfiehlt, UV-Strahlung unterhalb von 350 nm zu blocken, um besonders lotrechte
Strukturen zu erzeugen. In diesem Zusammenhang wird der Typ PL-360-LP aus der Mask-Aligner
Serie besonders empfohlen.


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Ansprechpartner:	Björn Götze
Firma:	Laser Components GmbH
Adresse:	Werner-von-Siemens Str. 15
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Telefon:	+49 (0) 8142 2864-53
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